簡要描述:固體表面Zeta電位分析儀,可測量縱向粘度,60%固體,PH值,電導率,溫度,聲衰減和聲速度譜;
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品牌 | 其他品牌 | 測量時間 | 1-10min秒 |
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分辨率 | 大于0.1nm微米 | 測量范圍 | 5nm-100μm微米 |
重現(xiàn)性 | <1% | 分散方式 | 濕法分散 |
價格區(qū)間 | 100萬-150萬 | 儀器種類 | 動態(tài)光散射 |
產(chǎn)地類別 | 進口 | 應用領域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,食品,生物產(chǎn)業(yè),石油,制藥 |
固體表面Zeta電位分析儀
原理簡介:
APS 從聲衰減光譜測量產(chǎn)生PSD數(shù)據(jù),不需要稀釋樣品。APS還測量粒度范圍的10納米到100微米的樣品的聲音速度譜、pH、電導率和溫度。
當聲音穿越泥漿或膠體時,是衰減的。衰減的程度與粒度分布有關。APS可在1 - 100 MHz的頻率范圍內(nèi)非常準確地測量聲音衰減。因為聲音穿過所有的物質媒介,APS聲音衰減的測量可以在高濃度和/或不透明的樣品中進行。粒子沉降并不是一個問題,因為在測量時樣品可以被攪拌或泵送。APS分析不受樣品的Zeta電勢水平的約束。APS很容易分析零粒子和高電荷。
APS取樣分析是快速和容易的,無需稀釋樣品。稀釋樣品費時,容易出錯,并可能改變樣品的實際PSD。簡單地倒,或者連續(xù)泵送樣品進入到APS的樣品室,APS的直觀的軟件在幾分鐘內(nèi)做玩余下的工作。
計算詳細PSD數(shù)據(jù)的技術,不需要假設PSD形狀。其他類型的儀器,例如光散射,意味著軟件或操作者假設或猜測PSD是單峰、雙峰、對數(shù)正態(tài)或高斯分布的。這種假設可能導致數(shù)據(jù)不可靠。
專門的APS硬件設計簡化了操作,同時減少維護。這個設計適合研發(fā)以及重復質量控制測量。APS也適合過程在線操作。
固體表面Zeta電位分析儀
主要用途:
1)半導體化學機械拋光(CMP)料漿;
2)陶瓷;
3)油墨;
4)乳劑穩(wěn)定性;
5)藥品;
6)生物膠體;
7)熒光粉;
8)有機和無機顏料如Ti02和炭黑;
9)催化劑;
10)礦物;
11)聚合物乳液;
12)水和非水分散體系;
技術參數(shù):
1)完整的粒度分布,而不是簡單的平均值和標準偏差大小的數(shù)據(jù);
2)不需要稀釋樣品;
3)不需要假設PSD形狀;
4)粒度范圍:0.005-100微米;
5)無電解質干涉;
6)可測量水的/非水的/不透明的/粘性的樣品;
7)可測量縱向粘度,60%固體,PH值,電導率,溫度,聲衰減和聲速度譜;
8)具有自動滴定選項;
9)專門技術:1-100MHz聲衰減譜;
10)溶劑:水/非水;
11)樣品固體%:0.1-60%體積比;
12)樣品體積:標準是120ml,50ml小體積可用;
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